RIVM_Logo

Relevante ruimtelijke schaal van droge depositiemodellering in het kader van de Programmatische Aanpak Stikstof

De Expertmeeting Luchtkwaliteitmodellering heeft onderstaand advies aangenomen, gebaseerd op de notitie 'Relevante ruimtelijke schaal van droge depositiemodellering in het kader van de Programmatische Aanpak Stikstof'.

De ELM adviseert om binnen Aerius een ondergrens van de rekenresolutie aan te houden van 100 m.

Indien op 100 m rekenresolutie gerekend gaat worden hoort hierbij de kanttekening dat droge depositiefluxverschillen op die 100 m schaal alleen een gevolg zijn van eventuele concentratieverschillen. De ruimtelijke representiviteit behorend bij de depositiesnelheid is namelijk minimaal 250 m. (De depositieflux is het product van de concentratie vermenigvuldigd met de depositiesnelheid.) Voor onderbouwing van dit advies wordt verwezen naar de schaalnotitie van Margreet van Zanten en Addo van Pul.

De ELM concludeert dat het mogelijk is binnen Aerius om met een minimale rekenresolutie van 100 m te rekenen om daarmee recht te doen aan de lokale concentratieverschillen.

 

Home / Documenten en publicaties / Uitgaven / Relevante ruimtelijke schaal van droge depositiemodellering in het kader van de Programmatische Aanpak Stikstof

RIVM De zorg voor morgen begint vandaag
Menu